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光刻机巨头ASML CEO:中国不太可能独立造出顶尖光刻机


  来源: 观察者网 时间:2022-01-23 编辑:清风
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【文/观察者网 吕栋】“中国不太可能独立复制(replicate)出顶尖的光刻技术,因为阿斯麦依赖于不懈的创新,以及整合只有从非中国供应商处才能获得的零部件。但我的意思并不是绝对不可能,因为中国的物理定律和我们这里是一样的。永远别那么绝对(Never say never),他们肯定会尝试的。”当地时间1月19日,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)CEO温彼得(Peter Wennink)表示。


光刻机是芯片制造核心设备,也是研发难度最大的半导体设备。目前,阿斯麦垄断着全球顶尖光刻机市场,该公司也因此被美国视为围堵中国大陆芯片产业发展的“政治棋子”。而温彼得在做出上述表述的同时还透露,阿斯麦尚未获得向中国大陆出口最先进光刻机的许可,但一些生产成熟制程的光刻机出口并不受限制。


CINNO Research半导体事业部总经理Elvis Hsu在接受观察者网采访时表示,光刻机是半导体制造设备价格占比最高的部分,约25-30%。其研发难点在于曝光光源、对准系统和透光镜头等技术的整合,以及庞大资金投入。目前国内技术领先的光刻机研制厂家是上海微电子,可以稳定生产90/65nm制造工艺的光刻机。


路透社报道截图


刚过去的2021年是全球芯片短缺最严重的一年,作为半导体制造关键设备提供商,阿斯麦1月19日也拿出一份亮眼业绩。财报显示,阿斯麦2021年总营收为186亿欧元(约合人民币1339亿元),同比增长33%;净利润为59亿欧元(约合人民币425亿元),同比增长66%;毛利率为53%,比上年同期提高4个百分点。


阿斯麦CEO温彼得表示,2021年营收中有63亿欧元来自42个EUV系统(极紫外光刻机)订单,比上年多11个。该公司在过去一年经历许多挑战,市场需求比最大产能高出40%至50%。为提高对客户的支持,该公司选择缩短周期以运送更多设备,主要通过快速发货流程跳过工厂的一些测试,并在客户现场进行最终测试和正式验收。虽然这会使收入确认推迟到客户正式验收前,但能帮助客户提早进行晶圆生产。


增加员工数量,也成为阿斯麦应对需求增长的方法。温彼得表示,该公司计划在今年年底前将员工人数从目前的3.15万人增加到3.5万人。他透露,该公司在2021年净增加4000多名新员工,到2022年底,员工人数将比2020年底增加近30%。不过,温彼得表示,该公司可能需要两到三年才能实现供需平衡。随着新工厂的建设,到2025年或2026年,全球半导体行业甚至可能出现“某种程度的供过于求”。


单从四季度来看,阿斯麦实现营收50亿欧元,净利润18亿欧元,毛利率达到54.2%;新增订单金额71亿欧元。期内,该公司共出货82台光刻系统,环比上季度增加3台;其中EUV光刻系统11台,比上个季度减少4台;在所有出货中,73%光刻机被用于逻辑工艺制造,27%的光刻机用于存储芯片生产。


阿斯麦2021年四季度财报截图


从出货地来看,中国台湾依然是阿斯麦的最大市场,四季度有51%的光刻系统发往当地,占比环比提升5个百分点;韩国是该公司第二大市场,同期有27%的光刻系统发往当地,占比环比下降6个百分点;中国大陆是阿斯麦第三大市场,四季度有22%的光刻系统向当地出货,占比提升12个百分点。2021年三季度,美国和日本分别在阿斯麦出货中占比10%和1%,但四季度占比均意外降为0,具体原因尚不清楚。


阿斯麦光刻机出货信息


过去几年,阿斯麦一直在研发高数值孔径(0.55 NA)EUV光刻机。这种EUV光刻机采用最新的光学设计,具有更高的分辨率(由13nm升级到8nm),可以使芯片面积缩小1.7倍,晶体管密度增加2.9倍。与目前的0.33 NA EUV光刻机相比,0.55 NA光刻机可以显著提高良率、降低成本和缩短生产周期。当然,0.55 NA光刻机的价格也相当昂贵,每台售价约为3亿美元(约合人民币19亿元),比0.33 NA光刻机售价高出一倍。


目前,台积电等生产7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻机,而第一代0.55 NA光刻机TWINSCAN EXE:5000还在研发过程中,预计2023年上市。早在2018年,英特尔就率先向阿斯麦下单第一代0.55 NA EUV光刻机,该公司也有望成为首个0.55 NA EUV光刻机的使用者,并将其用于3nm及以下制程。


关键词:ASML 光刻机 阿斯麦    浏览量:11185

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